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薄膜材料與薄膜技術(shù)(二版)

作者：鄭偉濤
出版社：化學(xué)工業(yè)出版社出版時間：2019-08-01
開本： 16開 頁數(shù)： 260
中 圖 價:¥38.7(7.9折) 定價  ¥49.0 登錄后可看到會員價
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薄膜材料與薄膜技術(shù)(二版) 版權(quán)信息

薄膜材料與薄膜技術(shù)(二版) 內(nèi)容簡介

本書系統(tǒng)闡述了薄膜材料與薄膜技術(shù)的基本原理和基本知識，重點介紹了薄膜材料的真空制備技術(shù)、薄膜的化學(xué)制備和物理氣相沉積方法、薄膜的形成和生長原理、薄膜的表征，對目前廣泛研究和應(yīng)用的幾種主要薄膜材料進行了介紹、評述和展望。 本書技術(shù)優(yōu)選，內(nèi)容實用，適合于從事材料研究的科研、技術(shù)人員閱讀參考，同時也可作為高校材料專業(yè)教材使用。

薄膜材料與薄膜技術(shù)(二版) 目錄

章真空技術(shù)基礎(chǔ)
節(jié)真空的基本知識
一、表示真空程度的單位
二、真空區(qū)域的劃分
三、固體對氣體的吸附及氣體的脫陽
第二節(jié)真空的獲得
一、旋片式機械真空泵
二、復(fù)合分子泵
三、低溫泵
第三節(jié)真空的測量
一、電阻真空計
二、熱偶真空計
三、電離真空計
參考文獻
第二章薄膜制備的化學(xué)方法
節(jié)熱氧化生長
第二節(jié)化學(xué)氣相沉積
一、一般化學(xué)氣相沉積反應(yīng)
二、化學(xué)氣相沉積制備薄膜的傳統(tǒng)方法
三、激光化學(xué)氣相沉積
四、光化學(xué)氣相沉積
五、等離子體增強化學(xué)氣相沉積
第三節(jié)電鍍
第四節(jié)化學(xué)鍍
第五節(jié)陽極反應(yīng)沉積
第六節(jié)LB技術(shù)
參考文獻
第三章薄膜制備的物理方法
節(jié)真空蒸發(fā)
一、真空蒸發(fā)沉積的物理原理
二、真空蒸發(fā)技術(shù)
一、濺射的基本原理
二、濺射鍍膜的特點
三、濺射參數(shù)
四、濺射裝置
第三節(jié)離子束和離子助
一、離子鍍
二、陰極電弧等離子體沉積
三、熱空陰極槍蒸發(fā)
四、離子轟擊共沉積
五、非平衡磁控離子助沉積
六、離子束沉積
第四節(jié)外延生長
一、分子束外延(MBE)
二、液相外延生長(LPE)
三、熱壁外延生長(HWE)
四、有機金屬化學(xué)氣相沉積(MOCVD)
參考文獻
第四章薄膜的形成與生長
節(jié)形核
一、凝聚過程
二、Langmuir-Frenkel凝聚理論
三、成核理論
四、實驗結(jié)果
第二節(jié)生長過程
一、一般描述
二、類液體合并
三、沉積參數(shù)的影響
第三節(jié)薄膜的生長模式
第四節(jié)遠離平衡態(tài)薄膜生長
一、粗糙表面的結(jié)構(gòu)和生長
二、簡單模型
三、薄膜生長模型的實驗研究
參考文獻
第五章薄膜表征
節(jié)薄膜厚度控制及測量
一、沉積率和厚度監(jiān)測儀
二、膜厚度測量
第二節(jié)組分表征
一、盧瑟福背散射(RBS)
二、二次離子質(zhì)譜儀(SIMS)
三、X射線光電子能譜(XPS)
四、俄歇電子能譜
五、電鏡中的顯微分析
第三節(jié)薄膜的結(jié)構(gòu)表征
一、衍射參數(shù)
二、熱振動與Debye-Waller因子
三、低能電子衍射(LEED)
四、掠入射角X射線衍射(GIXS)
五、透射電子顯微鏡
第四節(jié)原子化學(xué)鍵合表征
一、能量損失譜(EELS)
二、擴展X射線
三、振動光譜紅外吸收光譜和拉曼光譜
第五節(jié)薄膜應(yīng)力表征
參考文獻
第六章薄膜材料
節(jié)超硬薄膜材料
一、超硬材料
二、金剛石薄膜
三、類金剛石薄膜材料
四、CN薄膜材料
第二節(jié)智能薄膜材料
一、形狀記憶合金薄膜材料
二、NiTi形狀記憶合金薄膜的制備和表征
三、形狀記憶合金及薄膜的應(yīng)用
第三節(jié)納米薄膜材料
一、納米多層膜涂層
二、納米復(fù)合硬質(zhì)涂層
三、應(yīng)用及展望
第四節(jié)石墨片二維薄膜材料
一、石墨片的實驗制備
二、石墨片的性質(zhì)
三、展望
第五節(jié)磁性氮化鐵薄膜材料
一、氮化鐵薄膜材料的相結(jié)構(gòu)
二、氮化鐵薄膜材料的制備與表征
第六節(jié)巨磁阻錳氧化物薄膜材料
一、磁阻的定義
二、鈣鈦礦錳氧化物薄膜中的CMR效應(yīng)及機制研究
三、錳氧化物薄膜制備工藝及表征手段
四、巨磁電阻薄膜材料的應(yīng)用現(xiàn)狀
參考文獻
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