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現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù)

作者：王福貞
出版社：機(jī)械工業(yè)出版社出版時間：2021-07-01
開本： 16開 頁數(shù)： 370
中 圖 價:¥77.4(7.9折) 定價  ¥98.0 登錄后可看到會員價
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現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù) 版權(quán)信息

現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù) 本書特色

適讀人群 ：表面工程技術(shù)人員、相關(guān)領(lǐng)域的科研人員，相關(guān)專業(yè)的在校師生1）本書系統(tǒng)介紹了各種現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù)的原理、特點(diǎn)、裝備、工藝和應(yīng)用，重點(diǎn)分析了各種離子鍍膜新技術(shù)的設(shè)計理念。本書內(nèi)容全面、新穎，緊密聯(lián)系實(shí)際，具有很強(qiáng)的系統(tǒng)性、科學(xué)性、先進(jìn)性和實(shí)用性。 2）本書主要內(nèi)容包括：概述、真空物理和等離子體物理基礎(chǔ)知識、真空蒸發(fā)鍍膜、輝光放電離子鍍膜、熱弧光放電離子鍍膜、陰極電弧離子鍍膜、磁控濺射鍍膜、帶電粒子流在鍍膜中的作用、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、等離子體聚合，以及離子鍍膜技術(shù)在太陽能利用、信息顯示薄膜、裝飾性薄膜、光學(xué)薄膜、硬質(zhì)涂層、碳基薄膜、熱電薄膜等領(lǐng)域和低溫離子化學(xué)熱處理中的應(yīng)用。

現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù) 內(nèi)容簡介

本書系統(tǒng)地介紹了各種現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù)的原理、特點(diǎn)、裝備、工藝、發(fā)展歷程和應(yīng)用。其主要內(nèi)容包括概述、真空物理和等離子體物理基礎(chǔ)知識、真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)、輝光放電離子鍍膜技術(shù)、熱弧光放電離子鍍膜技術(shù)、陰極電弧離子鍍膜技術(shù)、磁控濺射鍍膜技術(shù)、帶電粒子流在鍍膜中的作用、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)、等離子體聚合技術(shù)，以及離子鍍膜技術(shù)在太陽能利用、信息顯示薄膜、裝飾性薄膜、光學(xué)薄膜、硬質(zhì)涂層、碳基薄膜、熱電薄膜等領(lǐng)域和低溫離子化學(xué)熱處理中的應(yīng)用。本書內(nèi)容全面、新穎，緊密聯(lián)系實(shí)際，具有很強(qiáng)的系統(tǒng)性、科學(xué)性、先進(jìn)性和實(shí)用性。

現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù) 目錄

序1
序2
前言
第1章概述1
11離子鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域1
12科學(xué)技術(shù)現(xiàn)代化對薄膜產(chǎn)品的新要求1
13鍍膜技術(shù)的類型3
131薄膜的初始制備技術(shù)3
132離子鍍膜技術(shù)3
14本書的主要內(nèi)容5
第2章真空物理基礎(chǔ)知識6
21真空6
211真空的定義6
212真空的形成6
213真空度的意義7
22氣體分子運(yùn)動的基本規(guī)律7
221理想氣體分子運(yùn)動規(guī)律7
222理想氣體的壓強(qiáng)9
223氣體分子的平均自由程10
224碰撞截面10
225分子運(yùn)動速度11
23氣體分子和固體表面的相互作用12
231碰撞12
232吸附和解吸或脫附12
233蒸發(fā)和升華13
24陰極表面的電子發(fā)射14
241固體表面的電子狀態(tài)14
242金屬的熱電子發(fā)射16
243金屬的冷場致發(fā)射18
244光電子發(fā)射18
245二次電子發(fā)射19
參考文獻(xiàn)20
第3章等離子體物理基礎(chǔ)知識21
31引言21
32等離子體22
321等離子體的定義22
322等離子體的分類23
323等離子體的獲得方法24
33氣體的激發(fā)和電離24
331帶電粒子的運(yùn)動狀態(tài)24
332粒子間碰撞后能量的變化規(guī)律25
333由電子非彈性碰撞產(chǎn)生的激發(fā)與電離27
334第二類非彈性碰撞33
335附著和離脫34
336帶電粒子的消失——消電離35
337氣體放電中的發(fā)光現(xiàn)象35
34氣體放電36
341氣體放電的過程36
342氣體放電的伏安特性曲線38
35輝光放電39
351輝光放電的特點(diǎn)39
352正常輝光放電和異常輝光放電41
353輝光放電兩極間各種特性的分布42
354輝光放電的空心陰極效應(yīng)44
355射頻放電46
356微波放電48
357大氣壓下的輝光放電49
36弧光放電53
361弧光放電的特性53
362弧光放電的類型54
363熱弧光放電54
364冷陰極弧光放電56
37帶電粒子的作用57
371離子的作用57
372電子的作用60
38帶電粒子的運(yùn)動60
381帶電粒子在電場中的運(yùn)動61
382帶電粒子在磁場中的運(yùn)動61
383帶電粒子在電磁場中的運(yùn)動64
39電磁場的運(yùn)用64
391同軸電磁場型離子鍍膜機(jī)65
392正交電磁場型離子鍍膜機(jī)65
參考文獻(xiàn)66
第4章真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)67
41真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)的分類67
42真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)67
421電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)67
422電子槍蒸發(fā)鍍膜機(jī)71
423激光蒸發(fā)鍍膜機(jī)73
424高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)74
43真空蒸發(fā)鍍膜層的組織74
431真空蒸發(fā)鍍膜層的形成條件74
432真空蒸發(fā)鍍膜層的生長規(guī)律77
433影響膜層生長的因素78
434膜層厚度的均勻性79
44真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)80
441立式蒸發(fā)鍍膜機(jī)80
442卷繞式蒸發(fā)鍍膜機(jī)81
參考文獻(xiàn)84
第5章輝光放電離子鍍膜技術(shù)85
51直流二極型離子鍍膜技術(shù)85
511直流二極型離子鍍膜的裝置85
512直流二極型離子鍍膜的工藝過程86
513直流二極型離子鍍膜中的粒子能量86
514直流二極型離子鍍膜的條件87
515直流二極型離子鍍膜中高能離子的作用88
516離子鍍膜層形成的影響因素92
517直流二極型離子鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)94
52輝光放電離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展94
521電子槍蒸發(fā)源直流二極型離子鍍膜技術(shù)95
522活性反應(yīng)離子鍍膜技術(shù)96
523熱陰極離子鍍膜技術(shù)97
524射頻離子鍍膜技術(shù)98
525集團(tuán)離子束離子鍍膜技術(shù)98
53增強(qiáng)型輝光放電離子鍍膜技術(shù)的共同特點(diǎn)99
參考文獻(xiàn)100
第6章熱弧光放電離子鍍膜技術(shù)101
61空心陰極離子鍍膜技術(shù)102
611空心陰極離子鍍膜機(jī)102
612空心陰極離子鍍膜的工藝過程102
613空心陰極離子鍍膜的條件103
614空心陰極離子鍍膜機(jī)的發(fā)展104
62熱絲弧離子鍍膜技術(shù)105
621熱絲弧離子鍍膜機(jī)105
622熱絲弧離子鍍膜的工藝過程106
63熱弧光放電離子鍍膜的技術(shù)特點(diǎn)107
64輝光放電離子鍍膜與熱弧光放電離子鍍膜對比109
641電子槍對比109
642鍍膜技術(shù)特點(diǎn)對比109
參考文獻(xiàn)110
第7章陰極電弧離子鍍膜技術(shù)111
71陰極電弧源112
72小弧源離子鍍膜技術(shù)112
721小弧源離子鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)112
722小弧源離子鍍膜的工藝過程114
73陰極電弧離子鍍膜的機(jī)理114
74陰極電弧離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展116
741小弧源離子鍍膜機(jī)的發(fā)展116
742矩形平面大弧源離子鍍膜機(jī)120
743柱狀陰極電弧源離子鍍膜機(jī)121
75對陰極電弧離子鍍膜機(jī)配置的特殊要求128
751引弧裝置的設(shè)置128
752磁場的設(shè)置128
753屏蔽結(jié)構(gòu)的設(shè)置128
76陰極電弧離子鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)129
77清洗技術(shù)的發(fā)展130
771鈦離子清洗工件的不足130
772弧光放電氬離子清洗技術(shù)131
773氣態(tài)源弧光放電氬離子清洗技術(shù)131
774固態(tài)源弧光放電氬離子清洗技術(shù)132
78陰極電弧離子鍍中脈沖偏壓電源的作用134
參考文獻(xiàn)137
第8章磁控濺射鍍膜技術(shù)139
81磁控濺射鍍膜的設(shè)備與工藝過程140
811平面靶磁控濺射鍍膜機(jī)140
812磁控濺射鍍膜的工藝過程140
82陰極濺射和磁控濺射142
821陰極濺射142
822磁控濺射144
83磁控濺射鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)147
831磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)147
832磁控濺射鍍膜技術(shù)的不足148
84磁控濺射離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展149
841柱狀磁控濺射靶149
842平衡磁控濺射靶與非平衡磁控濺射靶151
843磁控濺射鍍介質(zhì)薄膜技術(shù)的進(jìn)步156
844熱陰極增強(qiáng)磁控濺射162
845高功率脈沖磁控濺射162
85磁控濺射工件清洗新技術(shù)165
851ABS源165
852弧光放電氬離子清洗工件166
853用弧光放電源增強(qiáng)磁控濺射鍍膜166
參考文獻(xiàn)167
第9章帶電粒子流在鍍膜中的作用169
91帶電粒子流的類型169
92離子束169
921離子束的能量及作用169
922離子注入170
923離子束濺射鍍膜和離子束刻蝕173
924離子束輔助沉積及低能離子源174
93弧光電子流180
931弧光電子流的特點(diǎn)與產(chǎn)生方法180
932弧光電子流的應(yīng)用180
參考文獻(xiàn)182
第10章等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)183
101氣態(tài)物質(zhì)源鍍膜技術(shù)分類183
102化學(xué)氣相沉積技術(shù)184
1021熱化學(xué)氣相沉積技術(shù)184
1022金屬有機(jī)化合物氣相沉積技術(shù)188
1023原子層沉積技術(shù)190
103等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)192
1031等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)類型192
1032直流輝光放電增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)193
104等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積原理196
1041多原子氣體的熱運(yùn)動196
1042多原子氣體的激發(fā)和電離198
1043等離子體中固體表面的反應(yīng)200
1044等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)200
105各種新型等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)201
1051直流磁控電子回旋PECVD技術(shù)202
1052網(wǎng)籠等離子體浸沒離子沉積技術(shù)202
1053電磁增強(qiáng)型卷繞鍍膜機(jī)203
1054射頻增強(qiáng)等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)205
1055微波增強(qiáng)等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)206
1056電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)208
1057熱絲弧弧光增強(qiáng)等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)208
1058直流等離子體噴射電弧增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)208
參考文獻(xiàn)211
第11章等離子體聚合技術(shù)214
111概述214
1111等離子體聚合的定義與特點(diǎn)214
1112各種等離子體聚合技術(shù)簡介217
112等離子體聚合原理218
1121等離子體中的激勵活化反應(yīng)218
1122等離子體聚合反應(yīng)221
113等離子體聚合裝置及工藝222
1131等離子體聚合裝置222
1132等離子體聚合工藝226
1133等離子體聚合工藝條件的選擇和控制227
114等離子體聚合膜的應(yīng)用領(lǐng)域230
1141等離子體直接聚合膜的應(yīng)用領(lǐng)域230
1142等離子體引發(fā)聚合薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域233
115等離子體表面改性234
1151等離子體表面改性的定義234
1152等離子體表面改性的特點(diǎn)234
1153等離子體表面改性用的氣體235
1154等離子體表面改性的應(yīng)用領(lǐng)域235
參考文獻(xiàn)236
第12章離子鍍膜在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用238
121概述238
122太陽能光伏薄膜領(lǐng)域的鍍膜技術(shù)239
1221晶硅太陽能電池中的鍍膜技術(shù)240
1222異質(zhì)結(jié)太陽能電池中的鍍膜技術(shù)242
1223晶硅太陽能電池鍍膜技術(shù)的發(fā)展244
1224碲化鎘、銅銦鎵硒和鈣鈦礦太陽能電池中的鍍膜技術(shù)245
123太陽能光熱領(lǐng)域的鍍膜技術(shù)248
1231光熱薄膜材料249
1232低溫光熱薄膜250
1233中溫光熱薄膜250
1234高溫光熱薄膜250
124展望251
參考文獻(xiàn)251
第13章離子鍍膜在信息顯示
薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用253
131信息顯示技術(shù)的發(fā)展253
132現(xiàn)代信息顯示原理254
133信息顯示器件與信息顯示薄膜255
1331薄膜晶體管255
1332有機(jī)發(fā)光二極管256
1333信息顯示薄膜與離子鍍膜技術(shù)256
134信息顯示薄膜的制備257
1341有源層薄膜257
1342OLED發(fā)光功能層薄膜260
1343導(dǎo)電電極薄膜261
1344絕緣層薄膜264
135信息顯示薄膜器件的制備265
136展望268
參考文獻(xiàn)268
第14章離子鍍膜在裝飾性薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用271
141概述271
142裝飾性薄膜的顏色272
143裝飾性薄膜的性能要求273
144裝飾性薄膜材料的選擇與優(yōu)化275
1441金色系裝飾性薄膜275
1442黑色系裝飾性薄膜277
1443銀色系裝飾性薄膜279
1444干涉裝飾性薄膜279
145裝飾性薄膜的發(fā)展趨勢280
1451鮮艷的顏色280
1452優(yōu)異的耐蝕性281
1453更高的力學(xué)性能281
參考文獻(xiàn)282
第15章離子鍍膜在光學(xué)薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用284
151光學(xué)薄膜的定義與基礎(chǔ)285
1511光學(xué)薄膜的定義285
1512光學(xué)薄膜的理論基礎(chǔ)285
1513減反射光學(xué)薄膜289
1514高反射光學(xué)薄膜290
1515光學(xué)濾光片292
152光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域293
1521光學(xué)薄膜在鍍膜眼鏡行業(yè)的應(yīng)用293
1522光學(xué)薄膜在儀器設(shè)備上的應(yīng)用294
1523光學(xué)薄膜在手機(jī)產(chǎn)品中的應(yīng)用295
1524光學(xué)薄膜在汽車行業(yè)中的應(yīng)用296
1525光學(xué)薄膜在光通信領(lǐng)域中的應(yīng)用297
1526光學(xué)薄膜在幕墻玻璃中的應(yīng)用297
1527光學(xué)薄膜在生物醫(yī)療領(lǐng)域中的應(yīng)用299
1528光學(xué)薄膜在紅外波段產(chǎn)品中的應(yīng)用299
1529光學(xué)薄膜在投影顯示產(chǎn)品中的應(yīng)用299
153光學(xué)薄膜的制備技術(shù)300
1531物理氣相沉積301
1532化學(xué)氣相沉積303
1533原子層沉積303
154光學(xué)薄膜的表征304
參考文獻(xiàn)304
第16章離子鍍膜在硬質(zhì)涂層領(lǐng)域的應(yīng)用306
161高端加工業(yè)對涂層刀具的新要求306
162硬質(zhì)涂層的類型306
1621普通硬質(zhì)涂層307
1622超硬涂層310
163沉積硬質(zhì)涂層的離子鍍膜技術(shù)及其新發(fā)展315
1631沉積硬質(zhì)涂層的常規(guī)技術(shù)315
1632沉積硬質(zhì)涂層技術(shù)的發(fā)展316
參考文獻(xiàn)318
第17章離子鍍膜在碳基薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用321
171概述321
1711碳基薄膜的類型321
1712碳基薄膜的三元相圖321
172碳基薄膜的結(jié)構(gòu)322
1721金剛石薄膜的結(jié)構(gòu)322
1722類金剛石碳基薄膜的結(jié)構(gòu)323
1723類石墨碳基薄膜的結(jié)構(gòu)323
1724類聚合物碳基薄膜的結(jié)構(gòu)324
173碳基薄膜的制備技術(shù)與性能324
1731金剛石薄膜的制備技術(shù)與性能324
1732類金剛石碳基薄膜的制備技術(shù)與性能327
1733類石墨碳基薄膜的制備技術(shù)與性能332
1734類聚合物碳基薄膜的制備技術(shù)與性能333
174非晶碳基薄膜的應(yīng)用334
1741類金剛石碳基薄膜的應(yīng)用334
1742類石墨碳基薄膜的應(yīng)用337
1743類聚合物碳基薄膜的應(yīng)用338
參考文獻(xiàn)339
第18章離子鍍膜在熱電薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用343
181熱電技術(shù)及熱電器件343
1811塞貝克效應(yīng)和帕爾貼效應(yīng)343
1812熱電器件345
182熱電薄膜材料346
1821超晶格熱電薄膜346
1822柔性熱電薄膜347
183熱電薄膜制備中常用的離子鍍膜技術(shù)348
1831分子束外延348
1832磁控濺射349
1833脈沖激光沉積350
1834其他常見熱電薄膜制備技術(shù)351
184離子鍍膜技術(shù)在熱電器件中的應(yīng)用351
1841在微型熱電器件研究中的應(yīng)用351
1842在熱電器件電極制備中的應(yīng)用352
185展望354
參考文獻(xiàn)354
第19章離子鍍膜在低溫離子化學(xué)熱處理中的應(yīng)用357
191概述357
1911離子化學(xué)熱處理357
1912低溫離子化學(xué)熱處理357
192低溫離子化學(xué)熱處理工藝358
1921不銹鋼低溫離子化學(xué)熱處理工藝358
1922工模具鋼低溫離子化學(xué)熱處理工藝360
193低溫離子化學(xué)熱處理溫度的選擇361
1931常規(guī)離子滲氮溫度361
1932低溫離子化學(xué)熱處理溫度362
194低溫離子化學(xué)熱處理新技術(shù)364
1941增設(shè)活性屏技術(shù)364
1942熱絲增強(qiáng)低溫離子滲技術(shù)366
1943弧光放電增強(qiáng)低溫離子滲技術(shù)367
參考文獻(xiàn)370
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現(xiàn)代離子鍍膜技術(shù) 作者簡介

王福貞，教授，北京市有突出貢獻(xiàn)專家，享受國務(wù)院津貼，F(xiàn)任中國真空學(xué)會薄膜委員會顧問委員。1976年開始從事離子鍍膜技術(shù)研發(fā)、教學(xué)。1994年北京聯(lián)合大學(xué)退休。先后取得活性反應(yīng)離子鍍膜機(jī)、空心陰極離子鍍機(jī)、矩形平面大弧源離子鍍膜機(jī)、柱狀陰極電弧源、柱狀磁控濺射靶、電弧離子滲金屬等科研成果和授權(quán)多項(xiàng)。編著出版了《表面沉積技術(shù)》和《氣相沉積應(yīng)用技術(shù)》兩本技術(shù)圖書。2014年和2019年先后制作了《離子鍍膜技術(shù)》和《離子鍍膜技術(shù)更新版》兩部視頻教程，并在網(wǎng)易云課堂免費(fèi)播放。

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